Zemax由美國華盛頓州貝爾維尤市的Zemax軟件開發公司研制發售，它將光學系統的設計概念、優化、分析、公差以及報表集成在一起，形成一套綜合性的光學設計仿真軟件。到目前為止，Zemax已經成為當今使用*廣泛的光學設計軟件之一，市場占有率達到85%。目前Zemax使用群集中在光學公司，光電研究所，投影儀，望遠鏡，掃描儀等光學設計公司。

　　Zemax常常被應用于各種相機鏡頭，顯微鏡，望遠鏡，目鏡等光學鏡頭的設計;各種變焦鏡頭，手機攝像頭的設計;LCD 背光板和LED建模;DVD、VCD 激光讀寫頭;干涉儀、全息光學;各種激光器諧振腔的設計等等。

　　Zemax有兩個等級的版本，包括Zemax-SE(標準版)， Zemax-EE(專業版)。使用序列性與非序列性的方法來模擬成像系統和非成像系統的反射，折射和散射光線追跡。序列性光線追跡的光線追跡速度快、適合多數面的形狀和性質，可以直接優化和進行公差預算，主要針對相機鏡頭、望遠鏡鏡頭、顯微鏡頭等光學系統。而非序列主要針對非成像系統或者是復雜的形狀對象，可以對光線傳播進行更細節的分析，包括散射光或部分反射光。

　　Zemax光學設計軟件支持不同類型的光源，包括自定義的光源，同時提供近60種光學曲面面形，以及自定義的面形，包含很多玻璃庫，材料庫，樣板庫等。同時可以進行鍍膜分析，熱分析，偏振光分析，物理光學分析等。當設計好一個光學系統之后，可以運用二維或者是三維圖來觀察系統結構。Zemax還提供了各類像質評價指標。例如點列圖，彌散斑，調制傳遞函數，點擴散函數，幾何像差圖等。*重要的是，Zemax的優化功能，可以通過改變光學系統的結構參數來提高系統的成像質量。